光伏行業(yè)中的等離子清洗的應(yīng)用與技術(shù)
這些自由基會進(jìn)一步與材料表面作反應(yīng)。
其反應(yīng)機(jī)理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學(xué)反應(yīng),在壓力較高時(shí),對自由基的產(chǎn)生較有利,所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較高的壓力來近進(jìn)行反應(yīng)。
。2)物理反應(yīng)(Physical reaction)
主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,由于離子在壓力較低時(shí)的平均自由基較輕長,有得能量的累積,因而在物理撞擊時(shí),離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較的壓力下來進(jìn)行反應(yīng),這樣清洗效果較好,為了進(jìn)一步說明各種設(shè)備清洗的效果,我們作了各種對比試驗(yàn),具體見表1。
從以上的表可以說明,由于半導(dǎo)體電子元件日益縮小,半導(dǎo)體封裝技術(shù)的要求也越來越嚴(yán)格,因此,封裝廠在打線及封膠前,使用等離子體清洗機(jī)來基板的干式清潔方法,已成為目前必要的步驟,包括IC、LED、PCB、LCD等元件封裝廠商,正逐漸將等離子體清洗視為基本配置。目前國內(nèi)外市面上的等離子體清洗機(jī)除了包含暉盛科技之二家廠商的產(chǎn)品外,其余均只能使用適用于側(cè)面有開槽的彈匣,以達(dá)清洗效果,應(yīng)用開槽的彈匣有數(shù)項(xiàng)缺點(diǎn),除了可擺放的基板數(shù)量較少外,所開的槽也可能因等離子體暗區(qū)的原理而阻擋等離子進(jìn)入彈匣清洗基板,而影響清潔的效果,另外,一般封裝制程皆使用不開槽的彈匣,因此將不開槽與開槽的彈匣互換,會變成等離子體清潔前后必須的繁復(fù)動作,除了容易提高成本,可能使基板再次受污染及受損外,并會使生產(chǎn)效率降低,此外,暉盛生產(chǎn)的等離子體清洗機(jī)更具備多樣氣體及基板適用性、低氣體用量及高產(chǎn)量等特點(diǎn)。
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