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　　光伏產(chǎn)業(yè)對(duì)清潔生產(chǎn)的要求非常苛刻。太陽(yáng)能級(jí)的硅片雖然純凈度不需要達(dá)到電子級(jí)，但是6個(gè)9的純度也還是很高的。在切片等過(guò)程中，硅片或多或少會(huì)接觸到各種污染源，因此清洗顯得至關(guān)重要。等離子清洗是經(jīng)常用到的一種方法。

　　等離子清洗的應(yīng)用，起源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用越來(lái)越廣，目前已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的地位，等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響最大，首推電子資訊工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。等離子清洗已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒(méi)有等離子清洗技術(shù)，就沒(méi)有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測(cè)工業(yè)上，而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù)，比如說(shuō)光學(xué)元件的鍍膜、延長(zhǎng)模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測(cè)器的制造，超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步，才能開(kāi)發(fā)完成。 等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng)，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包括化工、材料和電機(jī)，因此將極具挑戰(zhàn)性，也充滿機(jī)會(huì)，由于半導(dǎo)體和光電材料在未來(lái)得快速成長(zhǎng)，此方面應(yīng)用需求將越來(lái)越大。

　　2 等離子清洗技術(shù)的原理

　　2.1 什么是等離子體

　　等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如太陽(yáng)表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱位物質(zhì)的第四態(tài)。

　　等離子體中存在下列物質(zhì)。處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過(guò)程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

　　2.2 如何用人工方法制得等離子體

　　除了在自己已存在的等離子體以外，用人工方法在一定范圍內(nèi)也可以制得等離子體。最早是在1927年，當(dāng)水銀蒸氣在高壓電場(chǎng)中的放電時(shí)由科研人員發(fā)現(xiàn)等離子體。后面的發(fā)現(xiàn)是通過(guò)多種形式，如電弧放電、輝光放電、激光、火焰或者沖擊波等，都可以使處于低氣壓狀態(tài)的氣體物質(zhì)轉(zhuǎn)變成等離子體狀態(tài)。

　　如在高頻電場(chǎng)中處于低氣壓狀態(tài)的氧氣、氮?dú)狻⒓淄�、水蒸氣等氣體分子在輝光放電的情況下，可以分解出加速運(yùn)動(dòng)的原子和分子，這樣產(chǎn)生的電子和解離成點(diǎn)有正、負(fù)電荷的原子和分子。這樣產(chǎn)生的電子在電場(chǎng)中加速時(shí)會(huì)獲得高能量，并與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞，結(jié)果使分子和原子中又激發(fā)出電子，而本身又處于激發(fā)狀態(tài)或離子狀態(tài)，這時(shí)物質(zhì)存在的狀態(tài)即為等離子體狀態(tài)。 在一般資料中�？梢砸�(jiàn)到用下述反應(yīng)式表述的等離子體形成過(guò)程。

　　如氧氣等離子體形成過(guò)程即可用下列6個(gè)反應(yīng)式來(lái)表示：