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　�。�2）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在100Pa。

　　根據(jù)清洗材質的不同，可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮氣等氣體。

　　（3）在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產生等離子體。讓在真空室產生的等離子體完全籠罩在被處理工件，開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

　�。�4）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時向真空室內鼓入空氣，并使氣壓升至一個大氣壓。

　　3.2 等離子清洗的特點和優(yōu)勢

　　與濕法清洗相比，等離子清洗的優(yōu)勢表現(xiàn)在以下8個方面：

　　（1）在經過等離子清洗以后，被清洗物體已經很干燥，不必再經干燥處理即可送往下道工序。

　�。�2）不使用三氯乙甲ODS有害溶劑，清洗后也不會產生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。

　�。�3）用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同，它的方向性不強，因此它可以深入物體的微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務，所以不必過多考慮被清洗物體形狀的影響，而且對這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好。

　　（4）整個清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點。

　�。�5）等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種真空度在工廠實際生產中很容易實現(xiàn)。這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格昂貴的有機溶劑，因此它的運行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。

　　（6）由于不需要對清洗液進行運輸、貯存、排放等處理措施，所以生產場地很容易保持清潔衛(wèi)生。

　�。�7）等離子清洗的最大技術特點是：它不分處理對象，可處理不同的基材，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可用等離子體很好地處理，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。 （8）在完成清晰去污的同時，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應用中都是非常重要的。

　　3.3 設備的原理理論分析

　　我們先簡單的定義什么是等離子體，等離子體是一團含有正離子、電子、自由基及中性氣體原子所組成的會發(fā)光的氣體團，如日光燈、霓紅燈發(fā)亮的狀態(tài)，就是屬于等離子體發(fā)亮的狀態(tài)。 等離子體的產生最主要是靠電子去撞擊中性氣體原子，使中性氣體原子解離而產生等離子體，但中性氣體原子核對其外圍的電子有一束縛的能量，我們稱它為束縛能，而外界的電子能量必須大于此束縛能，才會有能力解離此中性氣體原子，但是，此外界的電子往往是能量不足的，沒有解離中性氣體原子的能力，所以，我們必須用外加能量的方法給原子電子能量，使電子有利用解離此中性氣體原子。