光伏百科:硅片清洗及原理
硅片的清洗很重要,它影響電池的轉(zhuǎn)換效率,如器件的性能中反向電流迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要,下面主要介紹清洗的作用和清洗的原理。
清洗的作用
1.在太陽(yáng)能材料制備過程中,在硅表面涂有一層具有良好性能的減反射薄膜,有害的雜質(zhì)離子進(jìn)入二氧化硅層,會(huì)降低絕緣性能,清洗后絕緣性能會(huì)更好。
2.在等離子邊緣腐蝕中,如果有油污、水氣、灰塵和其它雜質(zhì)存在,會(huì)影響器件的質(zhì)量,清洗后質(zhì)量大大提高。
3.硅片中雜質(zhì)離子會(huì)影響P-N 結(jié)的性能,引起P-N 結(jié)的擊穿電壓降低和表面漏電,影響P-N 結(jié)的性能。
4.在硅片外延工藝中,雜質(zhì)的存在會(huì)影響硅片的電阻率不穩(wěn)定。
清洗的原理
要了解清洗的原理,首先必須了解雜質(zhì)的類型,雜質(zhì)分為三類:一類是分子型雜質(zhì),包括加工中的一些有機(jī)物;二類是離子型雜質(zhì),包括腐蝕過程中的鈉離子、氯離子、氟離子等;三是原子型雜質(zhì),如金、鐵、銅和鉻等一些重金屬雜質(zhì)。目前最常用的清洗方法有:化學(xué)清洗法、超聲清洗法和真空高溫處理法。
1.目前的化學(xué)清洗步驟有兩種:
。1)有機(jī)溶劑(甲苯、丙酮、酒精等)→去離子水→無(wú)機(jī)酸(鹽酸、硫酸、硝酸、王水)→氫氟酸→去離子水
。2)堿性過氧化氫溶液→去離子水→酸性過氧化氫溶液→去離子水
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