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光伏高效電池饕餮盛宴(五)

  3.高效晶體硅電池技術(shù)-表面織構(gòu)

  減少入射光學(xué)損失是提高電池效率最直接方法;瘜W(xué)腐蝕工藝是最成熟的產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)技術(shù),也是行業(yè)內(nèi)最廣泛使用的技術(shù),工藝門檻低、產(chǎn)量大;但絨面質(zhì)量不易控制、不良率高,且減反射效果有限(腐蝕后的反射率一般仍在11%以上),并產(chǎn)生大量的化學(xué)廢液和酸堿氣體,非環(huán)境友好型生產(chǎn)方式。反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)(RIE)是最有發(fā)展前景的技術(shù),它首先在硅片表面形成一層MASK(掩膜)再顯影出表面織構(gòu)模型,然后再利用反應(yīng)離子刻蝕方法制備表面織構(gòu)。用這種方法制備出的減反射絨面非常完美,表面反射率最低可降至0.4%,單多晶技術(shù)統(tǒng)一,生產(chǎn)工藝與設(shè)備都可移植于IC工業(yè),如果生產(chǎn)成本能夠進一步降低可望取代化學(xué)腐蝕方法而大規(guī)模使用。京瓷產(chǎn)業(yè)化17.2%~17.7%的多晶硅電池就是采用等離子刻蝕工藝的一個成功典范。

  4.高效晶體硅電池技術(shù)-發(fā)射區(qū)擴散

  PN結(jié)特性決定了太陽能電池的性能。傳統(tǒng)工藝對太陽能電池表面均勻摻雜,且為了減少接觸電阻、提高電池帶負(fù)載能力表面摻雜濃度較高。但研究發(fā)現(xiàn)表面雜質(zhì)濃度過高導(dǎo)致擴散區(qū)能帶收縮、晶格畸變、缺陷增加、“死層”明顯、電池短波響應(yīng)差。PN結(jié)技術(shù)是國際一流電池制造企業(yè)與國內(nèi)電池企業(yè)的主要技術(shù)差距。為了在提高電池的填充因子的同時避免表面“死層”,選擇性擴散發(fā)射極電池技術(shù)是最有望獲得產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的低成本革命性高效電池技術(shù),其技術(shù)原理簡單且通過現(xiàn)有裝備已經(jīng)在實驗室實現(xiàn),但如何降低制造成本是該技術(shù)產(chǎn)業(yè)化過程中所面臨的主要挑戰(zhàn)。目前國內(nèi)中電的SE電池和尚德的PLUTO冥王星的高效電池技術(shù)核心均來源于此,相信隨著配套裝備與輔助材料的及時解決近二年內(nèi)將會迅速普及與推廣。

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