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三種主要的薄膜太陽能電池詳解

  單晶硅是制造太陽能電池的理想材料,但是由于其制取工藝相對復(fù)雜,耗能大,仍然需要其他更加廉價的材料來取代。為了尋找單晶硅電池的替代品,人們除開發(fā)了多晶硅,非晶硅薄膜太陽能電池外,又不斷研制其它材料的太陽能電池。其中主要包括砷化鎵III-V族化合物,硫化鎘,碲化鎘及銅錮硒薄膜電池等。

  上述電池中,盡管硫化鎘薄膜電池的效率較非晶硅薄膜太陽能電池效率高,成本較單晶硅電池低,并且也易于大規(guī)模生產(chǎn),但由于鎘有劇毒,會對環(huán)境造成嚴重的污染,因此,并不是晶體硅太陽能電池最理想的替代。砷化鎵III-V化合物及銅銦硒薄膜電池由于具有較高的轉(zhuǎn)換效率受到人們的普遍重視。

  砷化鎵太陽能電池

  GaAs屬于III-V族化合物半導(dǎo)體材料,其能隙為1.4eV,正好為高吸收率太陽光的值,與太陽光譜的匹配較適合,且能耐高溫,在250℃的條件下,光電轉(zhuǎn)換性能仍很良好,其最高光電轉(zhuǎn)換效率約30%,特別適合做高溫聚光太陽電池。

  砷化鎵生產(chǎn)方式和傳統(tǒng)的硅晶圓生產(chǎn)方式大不相同,砷化鎵需要采用磊晶技術(shù)制造,這種磊晶圓的直徑通常為4—6英寸,比硅晶圓的12英寸要小得多。磊晶圓需要特殊的機臺,同時砷化鎵原材料成本高出硅很多,最終導(dǎo)致砷化鎵成品IC成本比較高。磊晶目前有兩種,一種是化學(xué)的MOCVD,一種是物理的MBE。GaAs等III-V化合物薄膜電池的制備主要采用MOVPE和LPE技術(shù),其中MOVPE方法制備GaAs薄膜電池受襯底位錯,反應(yīng)壓力,III-V比率,總流量等諸多參數(shù)的影響。 GaAs(砷化鎵)光電池大多采用液相外延法或MOCVD技術(shù)制備。用GaAs作襯底的光電池效率高達29.5%(一般在19.5%左右) ,產(chǎn)品耐高溫和輻射,但生產(chǎn)成本高,產(chǎn)量受限,目前主要作空間電源用。以硅片作襯底, MOCVD技術(shù)異質(zhì)外延方法制造GaAs電池是降用低成本很有希望的方法。已研究的砷化鎵系列太陽電池有單晶砷化鎵,多晶砷化鎵,鎵鋁砷--砷化鎵異質(zhì)結(jié),金屬-半導(dǎo)體砷化鎵,金屬--絕緣體--半導(dǎo)體砷化鎵太陽電池等。

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